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采用宽光谱变角度椭圆偏振仪对非平衡磁控溅射（UBMS）技术沉积的类金刚石（DLC）薄膜的光学常数进行了测量与分析。在建立模型时，根据DLC薄膜成膜特性，分析和调整了模型结构；综合考虑了表面粗糙度、薄膜与基底表面及界面因素对测试结果的影响，将表面层和界面层分离出来，并采用有效介质方法对它们的影响作了近似处理。结果表明：硅基底上采用UBMS技术制备DLC薄膜的椭偏数据，经该模型拟合后均方误差（MSE值）从37．39下降到4．061，提高了测量精度。