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从2000年开始，由日本应用物理学会硅技术分会发起每年召开一届的结技术国际研讨会，到2006年已经是第6届。这是一个由国际学术组织连续主办的系列会议，是集成电路工艺领域中一个档次很高的专题研讨会。除了一大批活跃在结技术研发第一线的日本科学家和工程师外，每届都有美国、欧洲、亚洲其他国家和地区的知名的结技术研发专家出席会议。