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根据步进式扫描光刻机硅片曝光过程的特点，建立了光刻机路径规划问题的数学模型。采用遗传算法对光刻机路径规划模型进行了合理的规划。规划结果表明，规划后的扫描路径能有效地提高光刻机的生产效率。
基于遗传算法的步进式扫描光刻机路径规划
【摘 要】
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根据步进式扫描光刻机硅片曝光过程的特点，建立了光刻机路径规划问题的数学模型。采用遗传算法对光刻机路径规划模型进行了合理的规划。规划结果表明，规划后的扫描路径能有效地
【机 构】
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中南大学机电工程学院
【出 处】
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机械科学与技术
【发表日期】
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2007年12期
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