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在常规两步氧化法合成的基础上,对芋螺毒素TxID第2对二硫键形成的条件进行了优化.优化条件包括有无氮气保护、氧化试剂中碘的浓度、三氟乙酸（TFA）含量、氧化时间等多个参数,研究其对TxID氧化折叠的影响.结果表明,氮气保护有利于TxID的氧化折叠,碘浓度需5～10倍于巯基浓度,TFA含量对氧化折叠影响不明显,氧化时间约5 min为宜.