【摘 要】
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根据承载器与抛光台的转速、浆料中微粒尺寸及下压力对抛光工艺的影响进行统计分析，特别是工艺中的抛光去除率、金属碟形缺陷和层间介质的侵蚀作为输出结果的主要参考因素。采
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十五研究所
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根据承载器与抛光台的转速、浆料中微粒尺寸及下压力对抛光工艺的影响进行统计分析，特别是工艺中的抛光去除率、金属碟形缺陷和层间介质的侵蚀作为输出结果的主要参考因素。采用3水平3因数的实验方案，结合信噪比方式对数据进行处理．使用田口玄一法进行数据的加工，从形成的3参数3水平对输出结果影响的3子图上，获取最优的工艺参数组合。选取根据经验的常用参数组合作为参照，发现新的优化方式能够提高10％的去除率，降低15％的碟形缺陷和侵蚀．显著的改善抛光质量。
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