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利用等离子体方法进行表面改性的先进技术，将磁控溅射、离子镀、多弧离子镀及全方位离子注入技术结合在一起，形成一种新型的等离子体基表面改性技术。该技术已获得国家发明专利。该装置可以根据表面工程技术的具体要求，在不破坏真空的情况下，单独或同时进行离子镀或离子混合注入，
多元等离子体基离子注入混合及多层复合膜技术
【摘 要】
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利用等离子体方法进行表面改性的先进技术，将磁控溅射、离子镀、多弧离子镀及全方位离子注入技术结合在一起，形成一种新型的等离子体基表面改性技术。该技术已获得国家发明专利
【出 处】
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表面工程资讯
【发表日期】
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2005年2期
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