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微电子材料CMP加工中去除率与速度的关系

来源 :重庆大学学报：自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhongminghe

【摘 要】

：

通过研究微电子材料化学机械平坦化(CMP)加工过程中磨料颗粒在晶片加工表面的运动规律,得到磨料颗粒在晶片表面的运动轨迹方程.当晶片和垫板的转动角速度相同时,得出材料去除

【作 者】

：

严波  吕欣  张晓敏 

【机 构】

：

重庆大学,重庆大学

【出 处】

：

重庆大学学报：自然科学版

【发表日期】

：

2005年2期

【关键词】

：

微电子材料 化学机械平坦化 材料去除率 刮痕 microelectronic materials  chemical mechanical planarizat 

【基金项目】

：

重庆大学校科研和教改项目

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通过研究微电子材料化学机械平坦化(CMP)加工过程中磨料颗粒在晶片加工表面的运动规律,得到磨料颗粒在晶片表面的运动轨迹方程.当晶片和垫板的转动角速度相同时,得出材料去除率(MMR)与垫板和晶片相对速度成正比的结论.给出了磨料颗粒在晶片加工表面形成的刮痕迹线实例.其结果对于正确理解微电子材料CMP加工中的材料去除机理具有实际意义.

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