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氮化硅/铝扩散连接结构的界面断裂特征
氮化硅/铝扩散连接结构的界面断裂特征
来源 :硅酸盐通报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wyn44298
【摘 要】
:
在真空不低于1.5×10-3Pa,温度为600℃,压强为30MPa,保温2h的条件下进行了Si3N4/Al的扩散连接.微观分析表明,连接的Si3N4/Al的界面两侧存在Si和Al原子有限的相互扩散.界
【作 者】
:
王立君
阎俊霞
贾燕
徐礼德
【机 构】
:
天津大学材料学院,河北科技大学材料学院
【出 处】
:
硅酸盐通报
【发表日期】
:
2002年5期
【关键词】
:
氮化硅/铝
扩散连接结构
界面断裂特征
结构陶瓷
Si3N4/Al interfacediffusion bondinginterface fracture
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在真空不低于1.5×10-3Pa,温度为600℃,压强为30MPa,保温2h的条件下进行了Si3N4/Al的扩散连接.微观分析表明,连接的Si3N4/Al的界面两侧存在Si和Al原子有限的相互扩散.界面断裂力学实验证实,Si3N4/Al连接界面的断裂机制为脆性剥离.
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