【摘 要】
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基于有限元方法对一款具有SiGe源/漏结构的纳米PMOSEFT进行了建模与分析,沟道应变的计算结果与CBED实验测量值呈现良好的一致性,最小误差仅为1.02×10-4。对新型的SiC源/
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基于有限元方法对一款具有SiGe源/漏结构的纳米PMOSEFT进行了建模与分析,沟道应变的计算结果与CBED实验测量值呈现良好的一致性,最小误差仅为1.02×10-4。对新型的SiC源/漏结构的纳米NMOSFET的类似研究表明,栅长越短,应变对沟道的影响越显著。另一方面,采用TCAD工具Sentaurus通过工艺级仿真生成了栅长为50 nm的SiGe源/漏结构的PMOSFET模型,计算所得饱和驱动电流与实际制作的器件相差仅约20μA/μm。研究表明有限元法与TCAD两种模拟技术可有效地用于纳米级
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