晶体相场法研究衬底小倾角对界面形态演化的影响

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采用晶体相场模型模拟了异质外延过程中不同衬底倾角时外延层的生长过程,研究了较大晶格错配度(??10.0)时不同衬底倾角下外延层的生长形貌和界面平均厚度,分析了晶格失配和衬底倾角对外延层的影响。研究表明,在错配度较大时,随着衬底倾角的增大,外延层由层状生长(0°与1°)转变为岛状生长(2°)。 The crystal phase field model is used to simulate the growth process of epitaxial layers with different substrate tilt angle in the heteroepitaxy process. The growth morphology of the epitaxial layers with different substrate tilt angles and the lattice mismatch (~ 10.0) The average thickness of the interface, the influence of lattice mismatch and substrate tilt on the epitaxial layer is analyzed. The results show that the epitaxial layer changes from lamellar growth (0 ° and 1 °) to island growth (2 °) as the misalignment increases.
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