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柠檬酸金钾化学沉镍金工艺是一种新型无氰沉金工艺。利用单因素变化模拟试验及镀层厚度测试研究了该工艺中反应温度、金盐浓度、添加剂浓度、pH值、副产物等因素对无氰沉金工艺的影响，确定金平均沉积速率随各因素变化的关系，为实际生产中沉金厚度控制提供理论依据。
柠檬酸金钾无氰沉金厚度控制研究
【摘 要】
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柠檬酸金钾化学沉镍金工艺是一种新型无氰沉金工艺。利用单因素变化模拟试验及镀层厚度测试研究了该工艺中反应温度、金盐浓度、添加剂浓度、pH值、副产物等因素对无氰沉
【机 构】
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珠海方正印刷电路板发展有限公司重庆大学化学化工学院电子科技大学微电子与固体电子学院
【出 处】
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2011中日电子电路秋季大会暨秋季国际PCB技术/信息论坛
【发表日期】
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2011年10期
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