【摘 要】
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IBM公司的能印制1微米线条的电子束制版系统是一项技术成就,它使该公司的1微米基片工艺成为可能。而使用普通的光学制版法,由于各种干扰影响很难得到这样窄的线条。 在沃森
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IBM公司的能印制1微米线条的电子束制版系统是一项技术成就,它使该公司的1微米基片工艺成为可能。而使用普通的光学制版法,由于各种干扰影响很难得到这样窄的线条。 在沃森研究中心研制的实验系统称为矢量扫描系统。大多数的扫描系统是在光栅上扫描——即对被扫描区进行直线横向扫描。例如,电视屏幕上的图象就是由光栅扫描产
IBM’s ability to print 1 micron lines of electron beam lithography is a technological achievement that has made the company’s 1 micron substrate process possible. The use of ordinary optical plate method, due to various interference effects is difficult to get such a narrow line. The experimental system developed at Watson Research Center is called Vector Scanning System. Most scanning systems scan on the raster - scanning the scanned area in a horizontal and vertical direction. For example, the image on a television screen is rasterized
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