BMpeeling的改善报告

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  摘要:CF BM peeling 就是在制造BM的过程中,由于BM 光阻与基板的附着力不够,造成BM 大面积缺失的现象。由于BM peeling 会造成基板和材料的浪费,影响产线的产能,BM peeling改善就是一个急需解决的问题。
  关键词: BM peeling 光阻材料 基板 附着力 预烘烤 曝光 显影
  在彩膜制造过程中,由于BM 相对于其他制程的线宽较小,出现peeling的概率大大增加。为了减少材料和产能的浪费,就必须解决BM peeling的问题。BM制程之所以出现peeling,就是光阻材料与基板的附着力不够,导致在显影过程中BM制成剥落,出现peeling。因此,提高光阻材料和基板的附着力就是一个解决BM peeling的重要的方向。本文主要从BM制程前基板处理、光阻选择、BM制程条件控制三个方面阐述BM peeling改善的方法。
  附着力介绍
  光阻对基板的附着力就是光阻对基板粘着能力的大小,即光阻和基板化学键合力和物理咬合力作用下的结合强度,影响附着力的主要因素就是:基板的洁净程度、光阻类型、预烘烤的时间温度和曝光量等。
  1.基板涂布前的清洗处理
  基板的洁净程度直接影响光阻在基板上的附着力。为了保证基板的洁净程度,在涂布前都会对基板进行清洗。基板清洗主要包括碱清洗、紫外光清洗、纯水清洗以及干燥。碱清洗能够去除大部分残留的异物,紫外光清洗能够去除有机物,纯水清洗能够去除残留的清洗剂。碱清洗需要适当的浓度清洗,浓度太高,容易形成碱残留,增加后段的清洗力度。需选用浓度适当的碱清洗,严格控制清洗过程的各个工艺参数,避免药液和油污残留,提高清洗质量,能够大大降低BM peeling的产生。
  2.光阻材料的选择
  由于不同的光阻材料的成分有差异,所以不同光阻与基板的附着力也是不同的。
  如图2所示,添加剂1的增加和添加剂2的减少能增加湿膜附着力,减少BM peeling的发生。
  3. BM 制程条件控制
  在BM 制程影响peeling产生的主要因素主要有:预烘烤的时间和温度、曝光量、显影时间。预烘烤的时间和温度曝光量以及曝光量影响光阻与基板的附着力。显影时间则影响BM的线宽大小。
  3.1预烘烤(pre-bake)
  涂布后都会对基板进行预烘烤,主要作用:1.去除光阻中的溶剂,避免溶剂挥发污染mask。2.提升光阻的附着力。3.释放光阻中的残余内应力,减少表面张力。
  提高预烘烤的时间和温度有利于增加湿膜对基板的附着力,但是烘烤时间过长会影响整体Tact Time影响产能,烘烤温度过高,会造成pin mura ,并且会引起显影不良。
  3.2曝光量的控制
  光阻剂主要成分有光敏剂、感光起始剂、单体、溶剂、塑化剂等。当紫外光照射时,感光起始剂裂解出现自由基,单体吸收自由基发生聚合反应形成聚合体。
  曝光量的增加有利于中体和单体与主要自由基形成更多的聚合体,随着曝光量的增加中体和单体完全形成聚合体,曝光量趋于饱和,再增加曝光量,形成的聚合体不再增加。
  3.3显影参数的控制
  显影就是未曝光的光阻与显影液发生反应后,被显影掉,显现曝光图案的过程。控制显影的两个主要因素就是显影时间及显影液温度和浓度。
  未曝光部分,没有发生交联反应,可溶于KOH溶液中。反应的本质是一个溶解过程。
  此工艺过程中,显影液消耗KOH中的OH-离子与活性剂。
  由于洁净室的温度在23℃,顯影液的温度一般也在23℃左右,不宜做大范围改动。显影液浓度是由动力直接供应,若修改某一台设备的显影液浓度较难。一般通过调整显影时间来调整BM的线宽。
  4.结论
  由于仅调整预烘烤、曝光量和显影时间中的一项都会对BM线宽造成影响。CD太大会影响开口率,影响这个基板的透光性。CD太小会影响RGB制程漏光等不良。为了保证BM线宽的不变,必须同时调整。
  提高预烘烤的温度能够大大提升湿膜的附着力,由于仅仅提升预烘烤的温度,会增加BM 的线宽,必须增加显影时间减小BM线宽。从图4可知,提升预烘烤温度,降低显影时间能够大大降低BM peeling的发生率。
  提升曝光量有利于光阻中聚合体的形成,增加附着力。为了保证BM 线宽不变,提升曝光量,必须同时增加显影时间。如图5所示,随着曝光量和显影时间的增加,BM peeling 发生率慢慢降低。
  总之,增加基板的洁净程度、改变光阻类型、增加预烘烤温度和曝光量,都可以降低BM peeling的发生。
  同时调整基板碱清洗溶液的浓度,提升预烘烤的温度和曝光量,增加显影时间。如图6所示,BM peeling的发生率已经大大降低,几乎为零,并且持续稳定,无反弹趋势。
  5.参考文献
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  (作者单位:南京中电熊猫平板显示科技有限公司)
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