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采用反应磁控溅射法沉积了一系列不同 W 含量的 ZrAlWN 复合膜，利用扫描电子显微镜、X 射线衍射仪、纳米压痕仪和摩擦磨损仪研究了复合膜的微结构、力学性能和摩擦磨损性能。研究表明，当 W 的原子百分含量小于30.19%时， ZrAlWN 薄膜与 ZrAlN 薄膜微结构相似，为 fcc - ZrAlWN ＋ hcp - AlN 两相共存；当 W 的原子百分含量在30.19%~36.05%时，AlN（110）衍射峰消失，薄膜中出现了 fcc - W2 N（111）和（200）衍射峰，此时薄膜为 fcc -