氮化铝薄膜结构和表面粗糙度的研究

来源 :稀有金属材料与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:abuqifuni
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采用直流磁控溅射的方法,在Si(111)基片上沉积AIN(100)面择优取向薄膜,研究了溅射功率对AIN薄膜结构及表面粗糙度的影响。结果表明,随着溅射功率的增加,沉积速率增大,但薄膜结构择优取向度变差,表面粗糙度增大,这说明要制备择优取向良好、表面粗糙度小的AIN薄膜,需选择较小的溅射功率。
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