UHV/CVD生长SiGe/Si材料分析及应用研究

来源 :深圳信息职业技术学院学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:scarllie
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以Si2H6和GeH4为生长气源,采用UHV/CVD系统在Si(100)衬底上生长了Sil—xGex合金和Sil—xGex/Si多量子阱结构。采用X射线双晶衍射仪、扫描电子显微镜和原子力显微镜等仪器设备对样品的组份、界面和表面形貌等晶体质量进行了研究。SiGe合金中Si和Ge摩尔分数的比值随着Si2H6和GeH4流量比的增加按比例线性增加,比例因子为2.57。生长的Si0.88Ge0.12合金样品的界面清晰,表面平整,平均粗糙度仅为0.4nm,位错密度低于104/cm2。六周期Si0.88Ge0.12/S
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