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分析了用于DWDM系统均匀光纤光栅反射特性与光栅、光刻条件的关系;给出了用于DWDM系统中的光纤光栅的设计原理、方法及确定光栅参数的流程.采用高斯光束和均匀相位模版,用二次曝光技术,有效消除了均匀光纤光栅的反射谱旁瓣,所设计和刻制的光栅完全满足DWDM系统的要求.
DWDM系统中均匀光纤光栅的设计
【摘 要】
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分析了用于DWDM系统均匀光纤光栅反射特性与光栅、光刻条件的关系;给出了用于DWDM系统中的光纤光栅的设计原理、方法及确定光栅参数的流程.采用高斯光束和均匀相位模版,用二
【机 构】
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广东省成人科技大学,暨南大学,华南师范大学
【出 处】
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半导体光电
【发表日期】
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2002年3期
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