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采用分子动力学方法模拟200eV的CH3粒子轰击到不同基底温度的钨样品上，分析了C、H原子在钨表面的沉积、散射及溅射情况，结果表明C、H原子的沉降量均随入射剂量的增加而增加。在基底温度为100K时，相同入射剂量下沉积的C原子最多，而当基底温度为1200K，在入射剂量大于1.5×1016cm-2时，C原子的沉降量小于其它基底温度下的C的沉降量。CH3在轰击样品时发生了分解，各种分解情况随基底温度变化较小，其中不同基底温度下一级分解率在40%上下波动，二级分解在23%左右，而完全分解的CH3在9%左