采用光学干涉方法实现高对比度聚合物发光二极管

来源 :液晶与显示 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yo55an
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
为了得到高对比度的聚合物发光二极管(PLED),设计并制作了消光干涉结构位于有机层之外的新型聚合物二极管.消光干涉层的结构为:CrOx/Cr/ITO/Cr.在玻璃衬底和ITO阳极之间溅射的光学干涉层可以部分消去背景光的反射.这种方法不需要考虑光学干涉层和OLED或PLED材料之间功函数匹配,以及在溅射过程中对有机层的损伤等问题.制作的器件的对比度为14.7∶1,这比没有采用光学干涉结构的器件的对比度要高得多.结果说明新型的光学干涉结构确实起到了提高器件对比度的效果,对器件参数的进一步优化有望达到一个实用化
其他文献
目的:探讨风湿性二尖瓣狭窄(MS)合并小左心室患者围术期综合治疗后的3年的随访结果。方法:将风湿性MS伴重度肺动脉高压患者共计152例,根据患者左心室舒张末期容积指数(LVEDVI)将患
日前,全国首辆自动驾驶出租汽车在广州市亮相,迎来了首批试乘体验者。此次推出的自动驾驶出租汽车由广州市公共交通集团白云公司运营。
期刊
期刊
日本莫莫-阿拉义安时(译音)公司开发了长寿命白光LED荧光灯,取代现有20W荧光灯,其寿命5万小时,比现有荧光灯寿命长8倍。预计价格超过1万日元/1盏灯,靠性能优势将占领市场。
研究了不同厚度有源层的顶电极CuPc-OTFT器件的电学特性。发现器件的性能与有源层厚度有依赖关系,其中,有源层厚度为20nm的器件性能最好。在有源层厚度大于20nm时,有源层厚度的
SDRAM作为大容量存储器在高速图像处理中具有很大的应用价值。但由于SDRAM的结构和SRAM不同,其控制比较复杂。文章详细介绍了SDRAM存储器的结构、接口信号和操作方法,以及SDRAM
日立显示和NTT公司联合开发了不带特殊眼镜而直视的液晶立体显示器。此器件是把两块23cm(9in)TFT-LCD器件重叠安装,两块TFT-LCD屏的间隔为7mm,前后两块屏因显示同一个画面的亮度
提出了一种集成LCoS芯片内的可编程多通道参考电压源的设计,简单介绍了LCoS显示系统的工作原理,给出了参考电压源部分电路的原理图、版图以及电路低功耗的实现方法.参考电压
在低真空(2.3×10^-3Pa)下采用射频磁控溅射法制备了ITO薄膜。溅射温度200℃,溅射气氛为氩气和氧气的混合气,溅射靶材为90%氧化铟、10%氧化锡的陶瓷靶。用场发射扫描电子显