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半导体材料砷化镓/锗拓扑相研究获重要突破
半导体材料砷化镓/锗拓扑相研究获重要突破
来源 :功能材料信息 | 被引量 : 0次 | 上传用户:psiteddd
【摘 要】
:
【正】日前,中国科学院半导体研究所常凯研究组,提出利用表面极化电荷在传统常见半导体材料GaAs/Ge中实现拓扑绝缘体相,通过第一性原理计算和多带k.p理论成功地证明了GaAs/Ge
【出 处】
:
功能材料信息
【发表日期】
:
2014年1期
【关键词】
:
半导体材料
拓扑
中国科学院半导体研究所
GaAs
Ge
砷化镓
第一性原理计算
极化电荷
绝缘体
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【正】日前,中国科学院半导体研究所常凯研究组,提出利用表面极化电荷在传统常见半导体材料GaAs/Ge中实现拓扑绝缘体相,通过第一性原理计算和多带k.p理论成功地证明了GaAs/Ge极化电荷诱导的拓扑绝缘体相,这为拓扑绝缘体的器件应用又向前推进了一步。中国科学院半导体研究所常凯研究组继前
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