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采用自制的喷雾热分解装置在玻璃衬底上制备ITO薄膜,并对实验条件进行了正交设计,以考察制备ITO薄膜的优良条件,结果表明,影响ITO薄膜光电性能的主要因素是基板温度。制备ITO薄膜的优化条件为:基板温度300℃,载气气流速度1L·min^-1,退火温度540℃,溶液配比为铟锡比10:1,喷嘴与基板距离8cm,薄膜沉积时间3.5min,相应的透光率为97%,方块电阻3875Ω/。