【摘 要】
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EBMF6.5型电子束曝光机是英国剑桥仪器公司1982年底的最新产品,是 EBMF6型机的改进型,笔者曾对该机作过考察。该机主要用于制作掩模版,也可直接在硅片上作图,是圆形束斑的矢
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EBMF6.5型电子束曝光机是英国剑桥仪器公司1982年底的最新产品,是 EBMF6型机的改进型,笔者曾对该机作过考察。该机主要用于制作掩模版,也可直接在硅片上作图,是圆形束斑的矢量扫描机。该机的主要技术性能为:
EBMF6.5 electron beam exposure machine is the latest product by the end of 1982 by Cambridge Instruments, which is an improved version of the EBMF6 machine. The author has made an inspection of the machine. The machine is mainly used for the production of reticle, but also directly on the silicon mapping, is a circular beam spot vector scanners. The main technical performance of the machine:
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