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用脉冲ｄｃ辉光放电通过等离子辅助化学气相沉积工业用金属陶瓷刀片镀上ＴｉＮｘ，ＴｉＣｘＮｙ和Ｎｘ。在７７３－９７３Ｋ的沉积温度范围内，研究了涂层参数对沉积率，涂层成分，涂层－基底分界面，涂层结构及微硬度的影响。采用最佳过程参数，获得了具有低氧和氯杂质，高微硬度和良好粘附强度的涂层。
PACVD的金属陶瓷的制备,特征和磨损性能
【摘 要】
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用脉冲ｄｃ辉光放电通过等离子辅助化学气相沉积工业用金属陶瓷刀片镀上ＴｉＮｘ，ＴｉＣｘＮｙ和Ｎｘ。在７７３－９７３Ｋ的沉积温度范围内，研究了涂层参数对沉积率，涂层成分，涂层－基底分界面，涂层结构及微硬度的影响。采用最佳
【出 处】
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国外核聚变与等离子体应用
【发表日期】
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1996年1期
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