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对Sill4与HX形成的二氢键复合物的结构特征及本质进行了探讨.在MP2/6—311++G(3d,3p)水平优化、频率验证得到复合物的分子结构,通过分子间距离及电子密度等值线图,确认SiH4与卤化氢已形成了二氢键复合物.MP2/6.311++G(3d,3p)水平下进行BSSE校正后的结合能为2.703-4.439kJ/mol.用对称匹配微扰理论对结合能进行分解,分解结果显示,siH4…HX(X=F,Cl,Br,I)二氢键复合物中静电能对总吸引能的贡献小于28%,并且相对稳定,这就是说siH4…HX二氢键复