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利用反应磁控溅射技术在BK-7基片上制备了二氧化钛和五氧化二铌均匀混合的光学薄膜．薄膜的内部微结构、表面形貌、化学成分比例以及光学性质等用X射线衍射、高分辨扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线光电子能谱和紫外可见近红外分光光度计进行研究；发现制备的薄膜为非晶结构，薄膜的表面平整、内部结构致密，不存在柱状结构或结晶颗粒的缺陷，TiO2与Nb2O5的成分比例大致是1：1．54．从光学透射光谱计算的折射率和消光系数显示，在550nm波长处的折射率为2．34，消光系数为2．0×10^-4．结果表明制备的