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1 曝光设备rn当前,在半导体器件生产中,用于65 nm制程的器件已进入量产,而用于45 nm制程也已成熟,即将进入量产期.
半导体光刻设备、材料的新动向
【摘 要】
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1 曝光设备rn当前,在半导体器件生产中,用于65 nm制程的器件已进入量产,而用于45 nm制程也已成熟,即将进入量产期.
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2007年4期
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