【摘 要】
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用原位XRD技术分析了连续加热过程中电沉积Ni-P薄膜晶化与相变行为．通过定量分析，确定出不同温度下各相的析出量，由此计算出各相的晶化与相变激活能以及晶化结晶度。结果表明，Ni-
【机 构】
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上海交通大学材料科学与工程学院高温材料及高温测试教育部重点实验室
【基金项目】
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上海应用材料研究与发展基金资助项目0412~~
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用原位XRD技术分析了连续加热过程中电沉积Ni-P薄膜晶化与相变行为．通过定量分析，确定出不同温度下各相的析出量，由此计算出各相的晶化与相变激活能以及晶化结晶度。结果表明，Ni-P非晶薄膜的晶化与相变行为与薄膜中P的含量有关．在晶化过程中出现了四种亚稳相即NiP，Ni2P，Ni12P5及Ni5P2．计算得到：亚稳相NiP，Ni2P及稳定相Ni3P的相变激活能分别为133±15，172±19及190±20kJ／mol；单个析出相的相变激活能低于Ni-P合金晶化激活能和Ni原子的
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