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FSI国际有限公司日前宣布:其PlatNiStrip镍-铂去除工艺已经通过几家全球最大的芯片制造商验证,并且应用在65nm技术器件的生产中。自2005年3月发布以来,FSI的PlatNiStrip工艺专门设计来为芯片制造商提供先进的自对准多晶硅化物结构,该项工艺已经引起了业界广泛的关注。