MOCVD生长的InGaN薄膜中InN分凝的研究(英文)

来源 :发光学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：maenzehai

【摘要】

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利用X射线衍射 (XRD)技术测量了MOCVD生长的InGaN薄膜中的InN分凝量。利用Vegard定理和XRD 2θ扫描测得实验的InGaN薄膜的In组分为 0 1～ 0 34。通过测量XRD摇摆曲线的InN( 0

【作者】

：

秦志新陈志忠童玉珍陆曙张国义

【机构】

：

北京大学物理系,介观物理与人工微结构国家重点实验室,介观物理与人工微结构国家重点实验室北京1

【出处】

：

发光学报

【发表日期】

：

2001年S1期

【关键词】

：

INGAN InN分凝 MOCVD InGaN InN segregation MOCVD

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利用X射线衍射 (XRD)技术测量了MOCVD生长的InGaN薄膜中的InN分凝量。利用Vegard定理和XRD 2θ扫描测得实验的InGaN薄膜的In组分为 0 1～ 0 34。通过测量XRD摇摆曲线的InN( 0 0 0 2 )和InGaN( 0 0 0 2 )的积分强度之比测得InN在InGaN中的含量为 0 0 6 84 %～ 2 6 396 %。根据XRD理论 ,计算出InN和InGaN的理论衍射强度。InN含量在所有样品中均小于 3% ,这表明样品的相分离度比较低。还发现InN在InG

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