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期刊论文
乳胶源硼扩散的SENTAURUS模拟
乳胶源硼扩散的SENTAURUS模拟
来源 :微处理机 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zeng_hc
【摘 要】
:
利用半导体TCAD工具Sentaurus对硅片的乳胶源掺硼扩散工艺进行模拟,用淀积后的退火处理过程替代注入后退火的模拟方案,以多种实测条件为标准,用两种条件进行模拟,并结合实测数据,
【作 者】
:
刘剑
宋玲玲
【机 构】
:
中国电子科技集团公司第四十七研究所
【出 处】
:
微处理机
【发表日期】
:
2014年5期
【关键词】
:
乳胶源硼扩散
SENTAURUS模拟
半导体TCAD
Sentaurus
Process模块
Emulsion boron difusionSentaurus
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利用半导体TCAD工具Sentaurus对硅片的乳胶源掺硼扩散工艺进行模拟,用淀积后的退火处理过程替代注入后退火的模拟方案,以多种实测条件为标准,用两种条件进行模拟,并结合实测数据,对模型结果进行比较,找到模拟的最终可行方案,弥补Sentaurus软件功能模块上的不足。
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