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光学光刻———向２１世纪挺进本刊编辑部当前的ＩＣ工业，正在沿着美国半导体工业协会（ＳＩＡ）制订的半导体技术发展蓝图并遵循摩尔定律向前发展。以存储器为代表的ＩＣ技术，已步入了０３５μｍ线宽的６４Ｍ器件批生产阶段；０２５μｍ线宽的２５６ＭＤＲＡＭ的制...
光学光刻———向21世纪挺进
【摘 要】
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光学光刻———向２１世纪挺进本刊编辑部当前的ＩＣ工业，正在沿着美国半导体工业协会（ＳＩＡ）制订的半导体技术发展蓝图并遵循摩尔定律向前发展。以存储器为代表的ＩＣ技术，已步入了０３５μｍ线宽的６４Ｍ器件
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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1998年2期
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