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光学光刻———向21世纪挺进
光学光刻———向21世纪挺进
来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhouyu_yy
【摘 要】
:
光学光刻———向21世纪挺进本刊编辑部当前的IC工业,正在沿着美国半导体工业协会(SIA)制订的半导体技术发展蓝图并遵循摩尔定律向前发展。以存储器为代表的IC技术,已步入了035μm线宽的64M器件
【出 处】
:
电子工业专用设备
【发表日期】
:
1998年2期
【关键词】
:
半导体器件
光学光刻
IC
集成电路
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光学光刻———向21世纪挺进本刊编辑部当前的IC工业,正在沿着美国半导体工业协会(SIA)制订的半导体技术发展蓝图并遵循摩尔定律向前发展。以存储器为代表的IC技术,已步入了035μm线宽的64M器件批生产阶段;025μm线宽的256MDRAM的制...
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