清洗用氟化气体材料的开发

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清洗用氟化气体材料的开发近年来,以半导体的高集成化为代表的电子工业在技术革新方面取得了显著的成绩,其中新材料的使用和新技术的产生是该领域得以发展的关键。在半导体制造业中,化学汽相淀积(CVD)和物理汽相淀积(PVD)等等薄膜制备技术是必不可少的。在用... Development of Fluorinated Gas Materials for Cleaning In recent years, the electronics industry represented by highly integrated semiconductors has made remarkable achievements in technological innovation. The use of new materials and the emergence of new technologies are the keys to the development of this field. Thin film fabrication techniques such as chemical vapor deposition (CVD) and physical vapor deposition (PVD) are indispensable in the semiconductor manufacturing industry. Using...
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