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本文介绍经化学法掺FeCl_3的聚乙炔膜注入30keV的K~+离子后形成一个p-n结,并研究了它的稳定性。同时还叙述了用两种不同方法制备的聚乙炔膜掺FeCl_3后经不同处理剂处理后结构和电导率的稳定性。
离子注入聚乙炔稳定性的研究
【摘 要】
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本文介绍经化学法掺FeCl_3的聚乙炔膜注入30keV的K~+离子后形成一个p-n结,并研究了它的稳定性。同时还叙述了用两种不同方法制备的聚乙炔膜掺FeCl_3后经不同处理剂处理后结构
【机 构】
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中国科学院上海原子核研究所,浙江大学
【出 处】
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核技术
【发表日期】
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1991年3期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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