用直流等离子化学气相沉积法在硬质合金上沉积氮化钛膜的研究

来源 :广东有色金属学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:mikezhai128
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用直流等离子化学气相沉积法在硬质合金上沉积TiN膜,研究了沉积工艺参数对膜层结构、膜层成分、断口形貌和膜层硬度的影响.结果表明,在500~700℃温度范围内,可以沉积出单相的TiN膜,膜层结构致密,硬度可达Hv21560N/mm2.在500片刀片装炉量的情况下,沉积室中不同部位的刀片均可得到相同结构和优异性能的膜层,因此采用此沉积法可以实现批量化生产. The deposition of TiN film on cemented carbide by direct current plasma chemical vapor deposition was studied. The effects of deposition parameters on the film structure, film composition, fracture morphology and film hardness were studied. The results show that single phase TiN film can be deposited in the temperature range from 500 ℃ to 700 ℃. The film has a compact structure with a hardness of Hv21560N / mm2. In the case of 500 blade furnace loading, the deposition of different parts of the blade can get the same structure and excellent performance of the film, so the deposition method can be used to achieve mass production.
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