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用频磁控溅射方法在不同基片温度下玻璃基片上分别制备ＮｉＯ单层膜、ＮｉＦｅ单层膜和ＮｉＯ／ＮｉＦｅ双层膜，研究了不同基片温度对膜的磁性能的影响，用振动样品磁强计（ＶＳＭ）分析了膜的磁特性，结果表明：基片温度２６０℃时淀积的ＮｉＦｅ膜矫顽力ＨＣ为１８４Ａ·ｍ＾－１，小于室温淀积ＮｉＦｅ膜的ＨＣ（５８４Ａ·ｍ＾－１），且磁滞回线的矩形度更好，室温下淀积ＮｉＯ（５０ｎｍ）／ＮｉＦｅ（１５ｎｍ）双层膜的ＨＣ