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北京仪器厂制造的JPG—450、JPGD—450磁控溅射台具有直流(2个)和射频(1个)磁控溅射源,配分子泵系统和多路质量流量控制器,可沉积单层或多层纯金属、合金和介质膜。该产品适用于大专院校和科研单位实验室。
实验室用磁控溅射台
【摘 要】
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北京仪器厂制造的JPG—450、JPGD—450磁控溅射台具有直流(2个)和射频(1个)磁控溅射源,配分子泵系统和多路质量流量控制器,可沉积单层或多层纯金属、合金和介质膜。该产品适
【出 处】
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真空科学与技术
【发表日期】
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1991年6期
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