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本文介绍一种选择电子束最佳曝光剂量的实验方法。详细叙述了实验图形的结构和用法。最后,给出了用本法对两种正性电子抗蚀剂选择最佳曝光剂量的结果和制作的大规模集成电路掩模版的照片。
选择电子束最佳曝光剂量的一种简便方法
【摘 要】
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本文介绍一种选择电子束最佳曝光剂量的实验方法。详细叙述了实验图形的结构和用法。最后,给出了用本法对两种正性电子抗蚀剂选择最佳曝光剂量的结果和制作的大规模集成电路
【机 构】
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中国华晶电子集团公司掩模中心,中国华晶电子集团公司掩模中心江苏无锡214061,江苏无锡214061,江苏无锡214061
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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1991年2期
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