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本文以超白玻璃为衬底，利用热丝化学气相沉积和磁控溅射法制备了Glass／nc-Si／A1的叠层结构，然后置于管式退火炉中在H2气氛下进行5h诱导晶化，用XRD、光学显微镜、扫描电镜和拉曼光谱对样品进行了表征。结果表明所有样品都是有（111）择优取向的多晶硅薄膜，在425℃诱导时，多晶硅晶粒尺寸最大达400μm，但薄膜不连续；随着诱导温度升高到450℃，样品表面已形成了连续的多晶硅薄膜，但晶粒尺寸有所减小；475℃下诱导获得的最大晶粒尺寸约为200μm，此时多晶硅薄膜的结晶质量更好。还从动力学的角度分析了铝