PCVD法制取β—SiC超微粉末

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本文以 CH<sub>3</sub>SiCl<sub>3</sub>为原料,利用 PCVD(Plasma Chemical Vapor Depo-sition)法制取了β—SiC 超微陶瓷粉末。平均粒径【0.1μm,SiC 含量可达到96%,氧含量可小于1.5%。实验探讨了粉末成分与诸因素关系;提供了粉末烧结性能的初步试验研究结果.
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