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期刊论文
TMAH单晶硅腐蚀特性研究
TMAH单晶硅腐蚀特性研究
来源 :微纳电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:a568420740
【摘 要】
:
TMAH是一种具有优良的腐蚀性能的各向异性腐蚀剂,选择性好,无毒且不污染环境,最重要的是TMAH与CMOS工艺相兼容,符合SOC的发展趋势.TMAH正逐渐替代KOH和其他腐蚀液,成为实现ME
【作 者】
:
邓俊泳
冯勇建
【机 构】
:
厦门大学机电工程系,厦门大学萨本栋微机电研究中心
【出 处】
:
微纳电子技术
【发表日期】
:
2003年12期
【关键词】
:
四甲基氢氧化氧
TMAH
单晶硅
腐蚀特性
各向异性腐蚀
微机电系统
TMAH
anisotropic etching
MEMS MEMS
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TMAH是一种具有优良的腐蚀性能的各向异性腐蚀剂,选择性好,无毒且不污染环境,最重要的是TMAH与CMOS工艺相兼容,符合SOC的发展趋势.TMAH正逐渐替代KOH和其他腐蚀液,成为实现MEMS工艺中微三维结构的主要腐蚀剂.本文着重介绍了TMAH的特性、工艺条件及应用.
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