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本文提出了一种新的基于材料光致变色特性来制造超高分辨率纳米结构技术。这种方法可以大大简化目前复杂的超高分辨率加工配置。同时,通过理论模拟圆环光束的大小对聚焦区域光强分布的影响,发现当环状聚焦光大小为60 nm,光致变色层厚度为0.1 μm时可以实现87 nm的“纳米刻针”系统。
一种基于光致变色材料的超分辨加工技术
【摘 要】
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本文提出了一种新的基于材料光致变色特性来制造超高分辨率纳米结构技术。这种方法可以大大简化目前复杂的超高分辨率加工配置。同时,通过理论模拟圆环光束的大小对聚焦区域
【机 构】
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深圳中科飞测科技有限公司,浙江外国语学院科学技术学院
【出 处】
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应用物理
【发表日期】
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2018年6期
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