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采用对靶直流磁控溅射设备制备镍铁氧化物催化薄膜，研究了溅射气压与催化薄膜的结构、表面形貌、过电位、电阻率及生长速率之间的关系。实验结果显示在溅射气压从0．5Pa到4．0Pa的范围内变化时，随溅射气压升高，材料晶化率降低，生长速率下降，过电位和电阻率都是先减小再增大；对用不同铁含量的镍铁合金靶制备的催化薄膜的极化特性比较发现，靶材中铁的含量越多过电位越小。