气氛对降膜介质阻挡放电反应器降解甲基橙的影响

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以偶氮染料甲基橙为对象,研究使用降膜介质阻挡放电(DBD)反应器在不同放电气体(氩气、空气、氧气)下的处理效果。结果表明:氧气作DBD放电气氛时,甲基橙处理效果最佳,氩气次之,空气最差。O3、H2O2、·OH这3种活性氧粒子对于甲基橙氧化降解起着至关重要的作用,氧气放电体系内3种活性粒子的含量远高于空气放电体系;氩气放电体系内的H2O2含量最高;空气放电体系还检测到大量的对甲基橙降解不利的NO3-、NO2-
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