基于ALD低温制备的纳米涂层刀具性能研究

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目的探索基于原子层沉积法(Atomic Layer Deposition, ALD)的纳米涂层低温制备技术,并重点研究涂层沉积过程及纳米氧化铝涂层对刀具力学性能的影响。方法利用原子层沉积法,在200℃的环境下制备不同涂层厚度的纳米Al_2O_3涂层刀具,对涂层的微观组织、厚度、硬度、断裂韧性、断口形貌、弯曲强度、结合力及摩擦系数进行检测。结果 ALD沉积技术能将纳米涂层均匀沉积在YT5刀具表面,且涂层光滑,无滴状气泡,涂层厚度可以精确控制在纳米级。ALD涂层与基体结合力的大小与涂层厚度相关,随着涂层厚度增
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