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期刊论文
无掩模光刻技术综述
无掩模光刻技术综述
来源 :中国战略新兴产业 | 被引量 : 0次 | 上传用户:goodshape
【摘 要】
:
本文通过在专利数据库中对无掩摸光刻技术进行检索分析,进而展现无掩摸光刻技术的发展现状,以期从技术研发和专利信息利用等方面给国内企业、院校提供相应的建议,为业界提供
【作 者】
:
刘艳鑫
【机 构】
:
国家知识产权局专利局专利审查协作江苏中心,江苏 苏州,215000
【出 处】
:
中国战略新兴产业
【发表日期】
:
2019年2期
【关键词】
:
无掩摸光刻
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本文通过在专利数据库中对无掩摸光刻技术进行检索分析,进而展现无掩摸光刻技术的发展现状,以期从技术研发和专利信息利用等方面给国内企业、院校提供相应的建议,为业界提供一定的参考.
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