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用脉冲激光沉积（PLD）技术制备了ZnO/SiC/Si和ZnO/Si薄膜并制成了紫外探测器。利用X射线衍射（XRD）,光致发光（PL）谱,I-V曲线和光电响应谱对薄膜的结构和光电性能进行了研究。实验结果表明：SiC缓冲层改善了ZnO薄膜的结晶质量和光电性能,其原因可能是SiC作为柔性衬底能够减少ZnO与Si之间大的晶格失配和热失配导致的界面缺陷和界面态。