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采用中频磁控溅射技术在钼圆片表面镀覆钌薄膜，通过X射线衍射仪、扫描电镜、平整度仪、宏观浸蚀试验和百格测试等对镀层进行表征和检测，研究不同沉积温度对薄膜微观结构和附着力的影响。结果表明，随着沉积温度由室温升至200℃，钌薄膜的表面平整性和致密性逐步改善，附着力得以提高；200℃沉积薄膜的膜／基结合力最大，其微观结构、致密性等也均达到最优；但当沉积温度进一步提高到300℃时，钌薄膜的表面起伏反而增大，附着力有所下降。