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高真空强静电场下半熔融态处理压电聚合物：—PA11／PVDF共混物晶体结构和显

来源 :功能高分子学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yushui223

【摘 要】

：

使用ＷＡＸＤ和ＳＥＭ研究了高真空强静电场下半熔融态处理不同共混比例（ＰＡ１１／ＰＶＤＦ＝０／１００、２０／８０、４０／６０、６０／８０、８０／２０、１００／０）的压电聚合的ＰＡ１１／ＰＶＤＦ共混物压片的晶体结构和形态。ＷＡＸＤ分析表明，纯ＰＶＤＦ经不同强度静电场半熔融态处理后晶体结构并没有发生

【作 者】

：

肖学山 张庆新 

【机 构】

：

上海大学材料研究所,中科院长春应用化学研究所

【出 处】

：

功能高分子学报

【发表日期】

：

2000年4期

【关键词】

：

静电场 PA11 PVDF 结构 形态 共混物 压电聚合物 electrostatic field PA11/PVDF crystal structure mo 

【基金项目】

：

国家高技术863-2项目资助!(86 2 -2 -7-3-12 )

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使用ＷＡＸＤ和ＳＥＭ研究了高真空强静电场下半熔融态处理不同共混比例（ＰＡ１１／ＰＶＤＦ＝０／１００、２０／８０、４０／６０、６０／８０、８０／２０、１００／０）的压电聚合的ＰＡ１１／ＰＶＤＦ共混物压片的晶体结构和形态。ＷＡＸＤ分析表明，纯ＰＶＤＦ经不同强度静电场半熔融态处理后晶体结构并没有发生改变，均为β型ＰＶＤＦ；而纯ＰＡ１１经不同强度静电场半熔融态处理后晶体结构发生了改变，随电场强度的增加，部分ＰＡ１１由α型向δ′型转变。ＰＡ１１／ＰＶＤＦ共混物经不同强度静电场半熔融态处理后，当ＰＡ１１含量较小时，其

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