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主要研究了不同保护层Ta和Ru对磁性薄膜NiFe的厚度及磁性的影响。通过观察可以看出，NiFe／Ta，NiFe／Ru界面间产生了磁矩为零的部分层即所谓的“死层”，其厚度分别为（1．5±0．2）nm，（1．2±0．2）nm（厚度误差在0．2nm范围内）。利用两种保护层时虽然避免不了“死层”现象的出现，但是发现，Ru作为保护层时产生的“死层”厚度比Ta作为保护层时的小。为了进一步证实这一点，我们采用X射线衍射仪及X射线光电子能谱仪对该两种薄膜进行了结构测试和深度剖析，并且运用XPSPeak