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采用真空磁过滤电孤离子镀技术在单晶硅（100）和栽玻片表面沉积Ti—O薄膜，研究了不同氧分压（0．08、0．13、0．2Pa）对薄膜结构及血液相容性的影响。研究结果表明，随着氧分压的提高，Ti—O薄膜相结构从三氧化二钛转变为金红石结构二氧化钛。扫描电子显微镜观察表明，所制备薄膜表面结构致密，与基体结合紧密。血小板粘附实验结果表明，0．13Pa下制备的薄膜血液相容性优异，优于临床应用的热解碳材料。